名称：场发射扫描电子显微镜 型号：Zeiss Sigma 300

技术指标：

1、分辨率：二次电子分辨率1.0nm@15kV，1.6nm@1kV；

2、加速电压：最低：0.02kV；最高30kV；

3、电子枪: Schottky型热场发射器；

4、样品移动：X：125mm，Y：100mm，Z：50mm。倾转范围T：-10°~90°，可360°旋转；

5、能谱仪探测器：分析型SDD硅漂移电制冷探测器，有效晶体面积40mm²，高分子超薄窗设计。

6、放大倍率：10倍到1，000，000倍

仪器原理：

仪器介绍：

Sigma 300 用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜，灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能
将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。

Sigma 300 具有极高的性价比，可快速方便地实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得可重复的分析结果。

基于成熟的 Gemini 技术，Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的影响，并将场对样品的影响降至更低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。

Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率。

Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。

灵活的检测器选项，获取清晰图像，使用新颖的ETSE和Inlens探测器在高真空下获取高分辨率表面形貌信息。

使用VPSE或C2D检测器在可变压力模式下获得清晰图像。

使用aSTEM检测器生成高分辨率透射图像。

能谱分析

使用牛津oxford能谱分析仪分析成分。

高级分析型显微镜
将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。

在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。

获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。

拉曼成像与扫描电镜联用
同时实验室配有拉曼光谱仪，获得材料的拉曼成像，获取样品中化学结构的指纹信息：聚焦拉曼光谱成像， 分析获得样品分子结构和结晶信息。 通过拉曼成像与SEM图像关联。发挥SEM和拉曼系统的测试能力。

应用领域：

材料表面形貌分析，微区形貌观察；各种材料形状、大小、表面、断面、粒径分布分析；各种薄膜样品表面形貌观察、薄膜粗糙度及膜厚分析等，主要领域如下：

⑴生物：种子、花粉、细菌……

⑵医学：血球、病毒……

⑶动物：大肠、绒毛、细胞、纤维……

⑷材料[1] ：陶瓷、高分子、粉末、金属、金属夹杂物、环氧树脂……

⑸化学、物理、地质、冶金、矿物、污泥（杆菌） 、机械、电机及导电性样品，如半导体(IC、线宽量测、断面、结构观察……）电子材料等。
 

CMA/CNAS认证标准：

1、纳米级长度的扫描电镜测量方法通则GBT20307-2006

2、扫描电子显微镜分析方法通则JYT0584-2020

3、微米级长度的扫描电镜测量方法通则GBT16594-2008

4、微束分析能谱法定量分析GBT17359-2012

仪器负责工程师：王老师

联系方式：13681015746，010-82178676